真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜的產(chǎn)品，將被鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空使鍍膜中的真空度達(dá) 到1.3x10-2~1.3x10-a,加熱坩鍋使高純度的鋁絲(純度99.99%)在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。
　　氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
　　需要鍍膜的被成為基片或基材，鍍的材料(金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的多的是鋁 ) 被成為靶材。
　　基片與靶材同在真空腔中。 蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
　　對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。
　　標(biāo)簽：真空鍍膜電源