真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

　　離子鍍膜

　　即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

　　標簽：真空鍍膜電源